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小林研究室に入るには:小林研究室は、協力講座として理学研究科、化学専攻、Aコース(無機・物理化学コース)に属しています。ここを受験して合格した方は博士前期課程(修士課程)または博士後期課程の学生として、小林研究室に配属されます。ご興味のある方は、小林まで電話(06-6879-8450)または電子メール
(h.kobayashi@ sanken.osaka-u.ac.jp)でご連絡ください。
※メールアドレスの一部に空白が入っていますので取り除いてメールを送信してください。
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小林研究室で行う研究
1. シリコン系材料とシリコンデバイスの創製:シリコンデバイスの基本構造であるMOSデバイスやpn接合に用いる材料と接合の形成と高性能化
用いる装置:硝酸酸化装置、電子ビーム蒸着装置、抵抗加熱蒸着装置、ラピッドサーマルアニール装置、HCN製造装置、HCN分解装置
2. 半導体の表面、界面、薄膜物性の研究 :太陽電池や半導体デバイスの特性に大きく影響する表面、界面、薄膜物性の観測と解析
装置:高分解能X線光電子分光(XPS)装置、分光エリプソメーター、全反射蛍光X線分光(TXRF)装置、キャリアーライフタイム測定装置、フーリエ変換赤外吸収分光(FTIR)装置
3. 半導体デバイスの電気特性の観測:太陽電池や薄膜トランジスターの電気特性の観測
装置:LCRメーター、ピコアンメーター、マニュアルプローバー、水銀プローバー、擬似太陽光源
このように、半導体材料を創製し、その表面、界面、薄膜物性を測定し、さらに太陽電池や半導体デバイスを作製してその電気特性を測定するという一連の研究を、研究室内で行うことができます。したがって、小林研究室で研究を行うと、材料創製、特に新規の化学反応を用いての材料創製の経験とセンス、物性の観測の経験と解析方法、電気測定の経験と知識を得ることができ、これらの幅広い知識と経験を身につけられる結果、学習したことをすぐに社会に出て役に立たせることができます。
◎卒業生の就職先
大阪大学, 東京大学, 東北大学, 筑波大学, 内蒙古師範大学, 産業技術総合研究所, 東芝, パナソニック, 京セラ, SHARP, ソニー,
SAMSUNG, 三菱重工, 住友電工, 大阪ガス, 新日本製鐵, 東京エレクトロン, NECエレクトロンデバイス, SCREENホールディングス,
リコー, maxell, 村田製作所, 帝人, カネカ, 大日本印刷, SUMCO, 関東化学, アステラス製薬, サラヤ, 他
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