東北地方太平洋沖地震被災者支援（受入れ可能な測定機器一覧）

北海道大学電子科学研究所　（H23.3.21現在）

●北海道イノベーション創出　ナノ加工・計測支援ネットワーク: 　[装置内容]　３３装置（STEM,SEM,FIB,E-baem,XPS,FTIR,UV-Vis-NIR,AFM,XRD,クリーンルームなど）; 　[利用形態]　装置利用と委託分析

●北海道大学ニコンイメージングセンター: 　[装置内容]　４装置（共焦点レーザー蛍光顕微鏡など）; 　[利用形態]　装置利用（委託分析は要相談）

●北海道大学オープンファシリティ(創成研究機構共用機器管理センター共用機器部門による): 　[装置内容]　６３装置（ラマンイメージ,FTIRイメージ,ICP発光分析,DLS,SPR,TEM,フローサイトメーター,セルサーター,DNAシーケンサーなど）; 　[利用形態]　装置利用（委託分析は要相談）

●北海道大学創成研究機構(共用機器センター委託分析部門): 　[装置内容]　１２装置（NMR,MS,元素分析など）; 　[利用形態]　委託分析

東京工業大学資源化学研究所　（H23.3.25現在）

●技術部　分析支援センター(すずかけ台): 　[装置内容]　有機微量分析装置,二重収束型質量分析計,MALDI-TOF-MS,ESI-TOF-MS,ICP発光分光分析装置,ICP質量分析装置,
蛍光X線分析装置,NMR(400MHz),超高速液体クロマトグラフィ,時間分解吸収分光解析システム,SEM,(TEMは現在調整中）; 　[利用形態]　委託分析(一部装置は装置利用も可能)
                  ※装置の仕様、精度等の詳細はセンターのホームページをご覧下さい。
                  ※測定希望の方は、分析支援センター長・穐田教授(makita@res.titech.ac.jp)までお問合せ下さい。また、上記以外の分析でも
                     ご希望があれば照会下さい。

大阪大学産業科学研究所　（H23.4.8現在）

●宿泊施設の提供: このたびの東北地方太平洋沖地震で被害を受けた大学等に対する支援の一環として、被災した大学に所属する方々を対象に産研を含む本学の宿泊施設を提供致します。詳しくは、大阪大学ホームページ（　http://www.osaka-u.ac.jp/ja/news/topics/2011/03/20110324_02　）をご覧下さい。

●研究場所の提供　（インキュベーション棟）: 一時的に研究活動を行っていただけるスペースを無償提供致します。施設の詳細は、インキュベーション棟ホームページ（　http://www.sanken.osaka-u.ac.jp/research-park/　）をご覧下さい。

●総合解析センター: 　[施設概要]　NMR、走査型電子顕微鏡を始めとする共同利用度の高い大型、中型分析装置類による組成分析、状態分析、構造解析、
物性評価など。

●ナノテク先端機器室: 　[施設概要]　電子線露光装置を用いた超微細加工システム、ナノデバイス加工装置、ナノデバイス構造評価装置、
ナノデバイス機能評価装置によるナノ構造形成および構造・機能・電子特性の高精度解析および評価。

●ナノテクノロジープラットフォーム: 　[施設概要]　・レーザーMBE装置等の各種蒸着装置を用いた分子・物質合成（産研）
・EB露光装置、集束イオンビーム装置等を用いた超微細加工（産研）
・超高圧電子顕微鏡等を用いたナノ計測・分析（電顕センター）

●産研内各研究室

　[概要]　材料・生体・情報に関わる各種の作成、評価装置(27研究分野)

○先進電子デバイス研究分野: 　[装置内容]　分光エリプソメトリー,真空蒸着装置,半導体パラメータアナライザー,有機半導体薄膜作製装置,原子間力顕微鏡(AFM); 　[装置管理者]　竹谷純一

○光・電子材料研究分野: 　[装置内容]　フォトリソグラフィシステム,真空蒸着装置,AFM装置,ワイヤボンダ装置,酸化膜形成プラズマスパッタ装置,
                  RIEエッチング装置,２結晶X線回折装置,ゴールドイメージ炉,集束イオンビーム装置,プラズマ灰化装置,デジタルHF顕微鏡,
                  赤外域発光特性評価装置,可視紫外域発光特性評価装置,ホール効果測定装置,STM／AFM装置,
                  磁気円偏光２色性分光装置; 　[装置管理者]　朝日一

○知能アーキテクチャー研究分野: 　[装置内容]　脳波計,左記バージョンアップ,Webカメラシステム; 　[装置管理者]　沼尾正行

○先端実装材料研究分野: 　[装置内容]　透過型電子顕微鏡JEM2100,走査型電子顕微鏡,熱分析システム(TG-DTA,DSC,TMA,DTA),ウルトラミクロトーム,
イオンスライサー,引張試験器(10t),各種環境試験器,X線透過非破壊試験器,超音波非破壊検査機,UV-VIS,
マグネトロンスパッタ; 　[装置管理者]　菅沼克昭

○半導体材料・プロセス研究分野: 　[装置内容]　分光エリプソメータ(SOPRA・GES5,測定波長220～900nm),
                  擬似太陽光源(山下電装・YSS-50,AM 1.5 100mW/cm2,最大4インチサイズ),
                  表面形状測定装置(ULVAC・DEKTAK 6M,垂直範囲5nm～262nm,操作距離範囲50m～30mm),
                  ライフタイム測定装置(コベルコ科研・LTA-1510,入射光904nm、最大200mmφ),
                  フーリエ変換赤外吸収分光装置(Nicolet・Nexus370S,測定波数 400～4000cm-1),
                  電気特性測定装置(YHP・4192A,4140B,マニュアルプローバー付き); 　[装置管理者]　小林光

○医薬品化学研究分野: 　[装置内容]　フーリエ変換赤外分光光度計(日本分光),液クロ分取システム(島津),生体分子間相互作用定量QCM装置(イニシアム),
X線フィルム現像装置(コダック Xオマット-1000),UVサンプル撮影装置(TOYOBO　FAS-IIImini),
リアルタイムPCR解析装置(Bio-Rad Miniopticon); 　[装置管理者]　加藤修雄

○精密制御化学研究分野: 　[装置内容]　DNA合成機,DNA融解温度測定装置,ビアコア2000,CD測定装置; 　[装置管理者]　中谷和彦

○ナノ極限ファブリケーション研究分野: 　[装置内容]　可視・紫外分光装置(日本分光V-670,V-530),粒子径・ゼータ電位測定装置(Malvern Nano-ZS),
                  粘度計(Brookfield DV-I),カールフィッシャー水分計(京都電子 MKC-501),高温真空乾燥器,簡易型遠心分離機,
                  テラヘルツ分光装置(先端赤外 pulse IRS-2000)(ナノテク先端機器室),液体He Siボロメーター(Infrared Lab.),
                  FTIR分光装置(日本分光 FTIR-6100)(ナノテク先端機器室),
                  ファイバマルチチャンネル分光器(オーシャンオプティックス　USB-2000, NIRQuest512); 　[装置管理者]　吉田陽一

○ソフトナノマテリアル研究分野: 　[装置内容]　分取液体クロマトグラフィー(LC-908、他),紫外可視分光光度計(UV-3100PC),蛍光分光光度計(FluoroMax2-Pol),
                  フーリエ変換赤外分析装置(SpectrumOne、高感度反射装置付き),MALDI-TOF-MS(AXIMA-CFR),
                  ガスクロマトグラフ質量分析計(GCMS-QP5050 GC-17A),瞬間マルチ測光システム(MCPD-7000),
                  電気化学アナライザー(BAS /ALS620C、回転ディスク電極装置/RDE-2),差走査熱量計(DSC-60),
                  電気化学アナライザー(BAS /100B-W CV-50W); 　[装置管理者]　安蘇芳雄

○ナノ機能材料デバイス研究分野: 　[装置内容]　ワイヤーボンダー(ウエストボンド社製 7476D),ナノスケールハイブリッド顕微鏡(キーエンス社製 VN-8000),
電気物性測定装置(カンタムデザイン社製 PPMS),X線回析装置(リガク社製 RINT2000); 　[装置管理者]　田中秀和

九州大学先導物質化学研究所　（H23.3.19現在）

●１: 　[装置内容]　600MHz 核磁気共鳴装置(Bruker AVANCE Ⅲ); 　[装置管理者]　五島健太

●２: 　[装置内容]　単結晶X線解析装置((株)リガク製・AFC10/Saturn70),単結晶Ｘ線構造解析装置(Rigaku製　R-AXIS RAPID),
                  超強力単結晶構造解析システム(リガク製・FR-E+),高分解能小角散乱装置(Bruker AXS製・NANOSTAR),
                  高輝度広角X線回折システム熱量同時評価部(リガク製・SmartLab),
                  高輝度広角X線回折システム薄膜解析部(リガク製・TTR-Ⅲ),二次元検出型Ｘ線構造解析装置(リガク製・R-AXIS RAPID / Mo); 　[装置管理者]　松本泰昌

●３: 　[装置内容]　核磁気共鳴装置(日本電子製・ECA600),核磁気共鳴装置(日本電子製 JNM-LA400),電子スピン共鳴装置(JEOL・FA200),
固体核磁気共鳴装置(日本電子製 JNM-ECA400); 　[装置管理者]　出田圭子

●４: 　[装置内容]　透過型電子顕微鏡(日本電子製 JEM-2100EX),コールドスプレーイオン源搭載質量分析計(日本電子製 JMS-T100CS）; 　[装置管理者]　田中雄

●５: 　[装置内容]　高分解能二重収束質量分析計(日本電子製 JMS-700); 　[装置管理者]　田中康子

　