ナノ極限ファブリケーション研究分野
教授:吉田 陽一
Prof. Y. YOSHIDA
准教授:楊 金峰
Assoc. Prof. J. YANG
助教:菅 晃一
Assist. Prof. K. KAN
特任研究員(客員准教授):柴田 裕実
Spec. App. Res. H. SHIBATA
本研究分野では、量子ビームによるナノファブリケーションに必要な高性能プロセスの開発を、量子ビーム、特に、フェムト秒パルスラジオリシスの手法を用いて行う。
研究課題
- 量子ビームによるフェムト秒・ナノ空間の反応解析
- 高性能ナノファブリケーションプロセスの開発
- フェムト秒パルスラジオリシス装置の研究開発
- 量子ビームによるナノファブリケーションの研究
- 量子ビームプロセスの初期過程と微細加工プロセスの解明
- 電子線露光によるナノ構造の構築プロセスの解明
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