大阪大学 産業科学研究所

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電子プロセス実験室

Electronic Processing Laboratory

スタッフ

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    室長 駒谷 和範
    Director Prof. K. KOMATANI

概要

 電子プロセス実験室は、平成3年(1991)に設置されたものである。当実験室は、光・電子材料、量子分子素子材料、有機素子材料などに関連した研究で必要とされる共通のプロセス関係の装置と、音響分析や心理実験に利用可能な無響室とを備えており、これらを研究の展開に役立てることを目的としている。
 現在、表面構造を調べるための原子間力顕微鏡・デジタル顕微鏡、パターン作成を行うためのフォトリソグラフィ装置、各種の絶縁層・電極形成を行うためのスパッタ薄膜形成装置・真空蒸着装置・電子ビーム蒸着装置、微細加工を行うための反応性イオンエッチング装置、端面形成のための劈開器、配線のためのワイヤーボンダー装置、小規模クリーンルームなどが設置されている。また無響室は4.0m×7.2mの広さがあり(高さ4.0m)、室内音圧レベルは30dB以下となるよう設計されている。

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 電子プロセス実験室は、平成3年(1991)に設置されたものである。当実験室は、光・電子材料、量子分子素子材料、有機素子材料などに関連した研究で必要とされる共通のプロセス関係の装置と、音響分析や心理実験に利用可能な無響室とを備えており、これらを研究の展開に役立てることを目的としている。
 現在、表面構造を調べるための原子間力顕微鏡・デジタル顕微鏡、パターン作成を行うためのフォトリソグラフィ装置、各種の絶縁層・電極形成を行うためのスパッタ薄膜形成装置・真空蒸着装置・電子ビーム蒸着装置、微細加工を行うための反応性イオンエッチング装置、端面形成のための劈開器、配線のためのワイヤーボンダー装置、小規模クリーンルームなどが設置されている。また無響室は4.0m×7.2mの広さがあり(高さ4.0m)、室内音圧レベルは30dB以下となるよう設計されている。