SPIE Advanced Lithography + Patterning 

2月23日～27日までSan Joseで開催されたSPIE Advanced Lithography + Patterning に古澤先生とJINさん（D3）、金場君（M2）が参加しました。
JINさんは口頭発表、金場君はポスター発表を行いました。大勢の聴講者の前で堂々とした立派な発表でした♪
今回は学会だけでなく普段訪れることができない研究所の見学なども出来、最先端の研究に触れることができました。
大阪より暖かい気候の中、San JoseやCaliforniaの街でおいしいものも頂きとても有意義な出張でした！