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ポリヒドロキシスチレン系レジストポリマーのラジカルカチオンのダイナミクス
化学増幅型レジストにおける酸発生剤の放射線分解機構および溶解挙動に与える影響の解明 学生発表 ］トラック拡散モデル計算に基づく高温水の中性子ラジオリシス初期過程研究 Effects of photoacid generator decomposition on dissolution kinetics of poly(4-hydroxystyrene) in tetraalkylammonium hydroxide aqueous solutions 学生発表 ］Automatic evaluation of line-and-space resist patterns with defects using image recognition technology学生発表 ］
水酸化フラーレンを保護剤とした卑金属ナノ粒子の調製検討 スズ含有レジストの放射線誘起反応機構の解明 ベイズ最適化を用いたフォトレジストにおける高分子マトリクス内脱保護反応の有効反応半径の概算学生発表 ］
高分子側鎖にスズ錯体を持つEUVレジストに関する研究学生発表 ］
テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液中でのポリ(4-ヒドロキシスチレン)の膨潤・溶解挙動のアルキル長依存性の研究学生発表 ］
極端紫外光(EUV)リソグラフィ用のマスク作製 トラック拡散モデル計算による高温水の中性子ラジオリシス初期過程の研究 ポリスチレンの正電荷非局在性へのパルスラジオリシスおよびシミュレーションによるアプローチ Application of machine learning to stochastic effect analysis of chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography 学生発表 ］
Effect of resist film thickness on line-and-space resist patterns on chromium nitride in electron beam lithography学生発表 ］
Analysis of dissolution kinetics of narrow polydispersity poly(4-hydroxystyrene) in alkaline aqueous solution using machine learning学生発表 ］
トラック拡散モデル計算による高温水の中性子ラジオリシス初期過程の研究
メタルレジスト配位子の放射線誘起反応過程の解明 学生発表 ］鉛ペロブスカイト太陽電池の電子線照射効果 フォトポリマー懇話会 ニュースレター 筆頭著者 Cu錯体をベースとしたレジスト材料の電子線誘起反応 化学増幅型レジストの電子線照射による膜厚依存性 EUV化学増幅型レジストにおける感度向上へのメタル増感剤の役割 ポリスチレン-フェニルシラン誘導体溶液の電子線パルスラジオリシス ジフェニルスルホン酸生成促進剤による化学増幅型レジストの感度向上 軟X線自由電子レーザーによるレジスト材料照射に関する研究 化学増幅レジスト薄膜における電子線照射による熱影響 パルスラジオリシス法を用いたレジスト材料の放射線化学初期過程の解明と応用 反応性ガスクラスターインジェクションを用いた斜め2方向エッチングによる3D構造の作成 極端紫外光リソグラフィを用いた微細加工 パルスラジオリシスによるフェニルスルホン化合物の放射線化学反応 フッ素系EUVレジストモデル分子の放射線誘起初期過程 パルスラジオリシスによるレジスト材料の放射線化学初期過程の解明と展開 液体フェニルシラン誘導体のパルスラジオリシス トップダウン・ボトムアップ技術の融合による金属ナノ粒子の位置制御 ClF3 中性クラスター斜め2方向照射によるレバー構造の作成 ニトロフェニル自己組織化単分子膜における電子線誘起極性変化によるブロック共重合体のラメラ配向 化学増幅型レジストへのスルホン化合物の添加効果 ポリスチレンのフェニルトリメトキシシラン溶液のパルスラジオリシス 電子線照射による高分子膜中での銀ナノ粒子の合成および微細加工 ClF3 中性クラスタービームによる斜めピラー構造の作成 アセタール基で保護したノーリア誘導体に基づいたレジスト材料の電子線照射に対する応答性の系統的な研究 ポリビニルピロリドン微細構造上でのAuナノ粒子形成と制御 添加剤を用いた酸生成促進によるEUV用化学増幅型レジストの感度向上 ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピルベンゼンのラジカルイオンのダイナミクス ClF3 中性クラスタービームによる斜めエッチング 高感度シングルナノレジスト材料開発 高感度シングルナノレジスト材料開発—Development of highly sensitive resists for single nano patterning 第100号記念特集〈第II部 放射線化学の現状と展望〉3. 応用： シングルナノマテリアルの放射線化学 EUVレジストに向けたフッ素ポリマーの放射線化学反応の解明 光酸発生剤を添加した芳香族系レジスト樹脂のパルスラジオリシス パルスラジオリシスによるポリヒドロキシスチレン固体中での脱プロトン化反応に関する研究 パルスラジオリシス法によるフッ素樹脂の放射線化学反応の解明 シングルナノに向けた次世代リソグラフィ材料設計 環状オリゴマーに基づいた化学増幅型分子レジストのレジスト性能評価に関する研究 ポリ(4-ヒドロキシスチレン)(PHS)濃厚溶液の脱プロトン反応の粘度効果 パルスラジオリシスによるポリヒドロキシスチレン固体中での脱プロトン化反応に関する研究 現像アナライザーによるポリマーバウンドPAGレジストとポリマーブレンドPAGレジストの現像挙動に関する研究 ポリ(4-ヒドロキシスチレン)のラジカルカチオンの脱プロトン反応 化学増幅レジストモデル溶液のパルスラジオリシス 極端紫外光リソグラフィー用レジスト開発 : レジスト内での像形成という視点から—Development of Extreme Ultraviolet Resists : From the Viewpoint of Image Formation in Resist Materials—実用化に向かう極端紫外リソグラフィー 巻頭言： 放射線化学と産業 極端紫外自由電子レーザーによるレジスト高分子へのエネルギー付与 局在光と偏光計測によるナノ粒子補足検出システムの開発 EUVレジスト開発における最近のトピック 極端紫外自由電子レーザーによる電子線レジストへのエネルギー付与 極端紫外自由電子レーザーによる極薄膜高分子中のスパー制御 Deprotonation mechanism of poly(styrene-acrylate)-based chemically amplified resist EUVリソグラフィ用レジストの開発状況と将来展望—Current status and prospect of resist materials used for extreme ultraviolet lithography—特集 次世代リソグラフィ,注目の技術 次世代リソグラフィ用レジスト材料の設計指針—Resist material design for next-generation lithography—特集 未来社会を支える技術戦略 半導体大量生産におけるナノ化学への挑戦(レーダー) 極微細加工用高分子薄膜のイオン化ダイナミクス Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene) Generated in Thin Film upon Exposure to Electron Beam 受賞記事： H19年度学会賞「放射線化学に基づく化学増幅型EB・EUVレジスト材料・プロセスの研究」 フルオロベンゼン誘導体の放射線化学に関する研究 フッ素化ナフタレンの放射線化学反応初期過程に関する研究 Poly(4-hydroxystyrene)膜中での放射線誘起反応に関する研究 ポリスチレン-ポリ(4-ヒドロキシスチレン)共重合体のカチオンダイナミクス アダマンチル基を有するNoria誘導体の合成とEB及びEUVレジストへの展開 電子線レジスト薄膜における酸発生剤の濃度効果 ポリ(4-メトキシスチレン)のパルスラジオリシス-ダイマーラジカルカチオン生成の置換基依存性 電子線照射によるレジスト薄膜内の酸生成量における酸発生剤の構造依存性 化学増幅型レジストベースポリマーのラジカルカチオンのダイナミクス ポリスチレン誘導体のパルスラジオリシス法を用いたラジカルカチオンのダイナミクスの研究 電子線リソグラフィと電解めっきを用いたナノ構造体の作製 化学増幅型電子線レジストにおける酸発生効率の酸発生剤濃度依存性の研究 化学増幅型レジストにおける酸塩基平衡の研究 フッ素系樹脂の酸発生機構 電子ビームにより超微細加工材料中に生成される中間活性種の空間分布 ポリヒドロキシスチレンの分子内ダイマーラジカルカチオン 化学増幅型レジストにおけるアミン効果とプロトンダイナミクス フッ素系樹脂の酸発生機構 UV-VIS-IRでの高SN比・高効率サブピコ秒パルスラジオリシス法の開発 電子線描画によるポリフルオレン誘導体の微細パターニングとその応用 電子線を用いたカーボンナノチューブナノデバイスの作製 ポリ4-ビトロキシスチレンとポリ4-メトキシスチレンの脱プロトン化挙動と酸発生量の関係 電子線レジストにおける酸発生量の膜厚依存性 臭素化したポリヒドロキシスチレンの放射線化学 化学増幅型レジストの放射線誘起反応機構の研究-酸形成過程のモデリングとシミュレーション- 電子線・EUV化学増幅型レジストにおける不均一酸分布の可能性 化学増幅型レジストの酸発生機構に由来する解像度劣化に関する研究 電子線リソグラフィにおける化学増幅型レジストの膜厚依存性 ポリマーからの酸発生に関する研究 化学増幅型レジストの反応中間体の空間分布に関する研究 展望・解説： リソグラフィーの最近の話題―ナノリソグラフィーの実現に向けて― 化学増幅型レジスト中におけるプロトンの生成・拡散に関する研究 電子線・X線化学増幅型レジストにおける酸発生効率のベースポリマー依存性 化学増幅型レジストの放射線誘起反応機構の研究-放射線化学初期過程と解像度の関係- 電子線描画によるポリフルオレン誘導体の微細パターニング 電子線・X線・EUV化学増幅型レジストにおける酸発生効率のヒドロキシル基に対する保護率依存性 第46回放射線化学討論会報告 承認待ち 岡本 一将, 古澤 孝弘, 田中 真人放射線化学 (77) 58-60 2004年 28pSH-6 フォトニック結晶による可視域放射光の発生 メタノール溶媒和電子生成過程における電子捕捉反応の研究 パルスラジオリシス法によるポリシラン上の正孔挙動と側鎖基の影響 サブピコ秒パルスラジオリシスによるハロカーボン(1-クロロプロパン,1-クロロブタン,1-クロロペンタン)の放射線化学初期過程の研究 サブピコ秒パルスラジオリシス法を用いた液体ベンゼン中のジェミネートイオン再結合の研究 サブピコ秒パルスラジオリシスを用いた液体ベンゼン誘導体中の過渡吸収 サブピコ秒パルスラジオリシス法による化学増幅型レジストの放射線誘起反応機構の研究 芳香族高分子中におけるプロトンの生成・拡散に関する研究 過渡吸収・誘電吸収同時測定法の開発と応用 パルスラジオリシス法を用いた塩素系溶媒中におけるポリスチレンダイマーカチオンラジカルの研究 パルスラジオリシス法を用いたポリメタクリル酸メチルの放射線分解過程の研究 サブピコ秒パルスラジオリシスによるハロカーボンの放射線化学初期過程の研究 パルスラジオリシスを用いた液体芳香族中での正電荷のダイナミクスの研究 パルスラジオリシス法を用いたベンゼンカチオン種の溶質添加系溶液での放射線化学反応の研究 パルスラジオリシスによるベンゼンカチオン種の近赤外過渡吸収 ポリメタクリル酸メチル骨格を持つ化学増幅型レジストの電子線リソグラフィへの適用の可能性に関する研究 サブピコ秒パルスラジオリシス法による化学増幅型レジストの放射線誘起反応機構の研究 アセトンダイマーラジカルカチオン 生成ダイナミクスの再解析 サブピコ秒パルスラジオリシスシステムの開発と溶媒和電子生成過程の研究 パルスラジオリシス法によるポリメタクリル酸メチルの放射線分解初期過程の研究 サブ秒パルスラジオリシスシステムのS/N比の改善 捕捉剤を添加した系でのジェミネートイオン再結合の挙動 サブピコ秒パルスラジオリシス法を用いたシクロヘキサン溶液中での溶質の中間活性種に関する研究 液体n-ドデカン中において溶質を添加した系でのジェミネートイオン再結合の挙動 サブピコ秒パルスラジオリシスによる測定とシミュレーション 佐伯昭紀, 綛田浩司, 岡本一将, 古沢孝弘, 吉田陽一, 田川精一, 放射線化学討論会講演要旨集 44th 2001年 ピコ秒パルスラジオリシス法によるベンゼン中間活性種の研究 サブピコ秒パルスラジオリシス法によるアルカン中のジェミネートイオン再結合の研究 吉田陽一, 佐伯昭紀, 古沢孝弘, 関修平, 丑田公規, 田川精一, 日本化学会講演予稿集 79th(1) 2001年サブピコ秒パルスラジオリシス法による液体アルカン中におけるジェミネートイオン再結合の研究 アクリル系,メタクリル系高分子(次世代超微細加工用レジスト)の放射線分解機構の研究 フェムト秒パルスラジオリシスシステムの開発 高時間分解能パルスラジオリシスシステムの開発 III ピコ秒パルスラジオリシスを用いたベンゼン誘導体の研究 29a-PS-149 レーザーフォトカソードRF電子銃の製作と性能試験 フェムト秒レーザー同期パルスラジオリシス法による溶媒和電子形成過程の研究 パルスラジオリシス法によるポリスチレンおよびベンゼン中間活性種の研究 レーザーフォトカソードRFガンを用いたピコ秒パルスラジオリシス法の開発 フェムト秒レーザー同期パルスラジオリシス法による液体アルカン中における放射線化学初期過程の研究 高時間分解能パルスラジオリシスシステムの開発 (II) 溶媒和電子初期過程のパルスラジオリシスによる研究 高分子の放射線化学初期過程 ポリスチレンの放射線化学反応 フェムト秒パルス発生のための基礎研究 フェムト秒パルス発生のための基礎研究 ピコ秒領域における液体アルカン中でのジェミネートイオンペアの挙動 芳香族ダイマーアニオンの生成しない理由 芳香族ダイマーラジカルアニオンの不安定性 フェムト秒レーザー同期によるピコ秒パルスラジオリシスの開発と利用 28a-K-3 高輝度陽電子ビームの生成 28a-K-2 阪大産研における低速陽電子ビームの短パルス化 第15回応用放射線化学シンポジウム開催報告-2 溶液系におけるポリスチレンのパルスラジオリシス サブピコ秒パルスラジオリシス法の開発 フェムト秒レーザー同期パルスラジオリシス法による溶媒和電子の過渡吸収スペクトル 高時間分解能パルスラジオリシスシステムの開発 ポリスチレンのパルスラジオリシス サブピコ秒電子線パルスの発生と応用 レーザー同期ピコ秒パルスラジオリシス法の開発 レーザー同期ピコ秒パルスラジオリシス法によるアルカン中のジェミネートイオンペアの挙動の研究 電子捕捉剤効果 レーザー同期ピコ秒パルスラジオリシス法による放射線化学初期過程の研究 (II) レーザー同期ピコ秒パルスラジオリシス法によるアルカン中のジェミネートイオンペアの挙動の研究 白色光による測定 パルスラジオリシス法による高速過渡現象の研究 ピコ秒パルスラジオリシスの手法 フェムト秒レーザー同期による新しいピコ秒パルスラジオリシスシステムの開発 レーザー同期ピコ秒パルスラジオリシス法による放射線化学初期過程の研究 フェムト秒レーザー同期ピコ秒パルスラジオリシスシステムの白色光システム導入と高時間分解能化 フェムト秒レーザー同期法による新しいピコ秒パルスラジオリシス法 フェムト秒レーザー同期による新しいピコ秒パルスラジオリシスシステムの開発 レーザー同期ピコ秒パルスラジオリシス法によるアルカンの放射線化学初期過程の研究 レーザー同期ピコ秒パルスラジオリシス法によるアルカン中のジェミネートイオンペアの挙動の研究 , 三木美弥子, 水谷康弘, 岡本一将, 泉佳伸, 古沢孝弘, 丑田公規, 吉田陽一, 田川精一, 放射線化学討論会講演要旨集 40th 1997年 レーザー同期ピコ秒パルスラジオリシス法による放射線化学初期過程の研究 フェムト秒レーザー同期によるパルスラジオリシス装置の開発と放射線化学初期過程への適用 Geminateイオン再結合と競争する溶質間正孔移動の測定と解析 Smoluchowski方程式を用いてジェミネート再結合を考慮した溶質間電子移動反応速度の決定 高輝度サブピコ秒電子シングルバンチの生成と利用(共著) 高速量子現象の測定に関する研究 ピコ秒・ナノ秒パルスラジオリシス 溶質間電子移動を用いたラジカルカチオンの吸光係数の決定 低次元半導体の照射効果と電子物性の研究 27p-H-11 連続電子パンチによるプラズマウェーク場の蓄積効果 ,27p-H-10 東大電子ライナックにおけるプラズマレンズ実験
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