研究室情報
ナノリソグラフィ共同研究部門
半導体の微細化には、リソグラフィ技術が欠かせません。この技術では、感光性素材であるレジストを使います。このレジストを使って微細なパターンを作り出します。しかし、現在使われている高分子レジストでは、最先端の技術では線幅が約10nmと非常に微細です。これには、少量の高分子しか使われていないことが影響しています。そのため、今後は従来の材料とは異なる新しい材料やプロセスが必要とされます。本研究部門は、ナノリソグラフィの研究のため、新規計測・解析技術の有効活用と産学連携を推進しています。
メンバー
井谷 俊郎
Toshiro ITANI
特任教授（常勤）
Julius Joseph Sudlay Santillan
Julius Joseph Sudlay Santillan
特任准教授（常勤）
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